項(xiàng)目 | ①M+FLO磁絮凝沉淀池 | ②KWI高效溶氣氣浮池 |
技術(shù)發(fā)明人 | 青島太平洋化工裝備公司 | 巴安水務(wù)奧地利KWI公司 |
技術(shù)特點(diǎn) | 加磁絮凝澄清技術(shù),加注磁粉強(qiáng)化絮凝和凈化效果,磁絮體高速沉淀分離 | 提高回流比強(qiáng)化溶氣氣浮凈化處理效果,高密度微氣泡高速浮渣 |
表面負(fù)荷 | 15-25m3/(m2*h) | 10-20 m3/(m2*h) |
系統(tǒng)停留時(shí)間 | 15分鐘左右 | 20分鐘左右 |
SS去除 | SS<5mg/L,濁度<1.0NTU | SS<5mg/L ,濁度<1.0NTU |
TP去除 | TP<0.1 mg/L 超低控磷TP<0.05 mg/L | TP< 0.1mg/L |
進(jìn)水水質(zhì) | 一級(jí)B | 一級(jí)B |
抗沖擊負(fù)荷 | 優(yōu)良 | 一般 |
藥劑消耗 | 低 | 低 |
噸水電耗 | 0.015KW.h | 0.075KW.h |
占地平面 | A | 1.5A |
工程投資 | 與②相當(dāng) 加磁絮凝沉淀池土建+設(shè)備 | 與①相當(dāng) 高效溶氣氣浮池土建+設(shè)備 |
地表準(zhǔn)Ⅱ/Ⅲ 標(biāo)準(zhǔn)工藝 | M+FLO磁絮凝沉淀池/單工藝 | 高效溶氣氣浮池/單工藝 |